摘要 本設備基于雙旋轉補償器調制技術一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、R/T等光譜，可實現基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學常數的快速分析表征。

摘要 SE-VE橢偏儀是基于單旋轉補償器調制技術一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光譜，可實現基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學常數的快速分析表征。

摘要橢偏儀折射率介電常數GBT 1409-2006測量電氣絕緣材料在工頻、音頻、高頻（包括米波波長在內）下電容率和介質損耗因數的推薦方法GB/T1693-2007 硫化橡膠 介電常數和介質損耗角正切值的測定方法 ASTM D150/IEC 60250固體電絕緣材料的(恒久...

摘要橢偏儀測介電常數GBT 1409-2006測量電氣絕緣材料在工頻、音頻、高頻（包括米波波長在內）下電容率和介質損耗因數的推薦方法GB/T1693-2007 硫化橡膠 介電常數和介質損耗角正切值的測定方法 ASTM D150/IEC 60250固體電絕緣材料的(恒久電介...

摘要 采用雙旋轉補償技術，可測量穆勒矩陣的全部16個單元，RC2是J.A.Woollam公司的的光譜橢偏儀產品。

摘要 BX-G102系列針對科研和工業環境推出的高精度快速攝譜型廣義光譜橢偏儀，波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。 廣義光譜橢偏儀采用寬帶超消色差補償器、利用步進補償器掃描測量采樣模式、基于高靈敏度探測單元和光譜橢偏儀分析軟件，用于測量納米薄膜樣品、塊狀材料和各向異性材料。

摘要BX-G101系列針對科研和工業環境中薄膜測量推出的高精度快速攝譜型光譜橢偏儀，波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。 光譜橢偏儀基于高靈敏度光譜探測單元和光譜橢偏儀分析軟件，用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數（如，厚度）和物理參數（如，折射率n、消光系數k，或介電函數ε1...

摘要BX-G103系列是針對新穎研發和質量控制領域推出的型多入射角激光橢偏儀。 BX-G103系列可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準確測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數k；也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數k；亦可用于實時...

摘要BX-G104針對光伏太陽能電池研發和質量控制領域推出的專用型多入射角激光橢偏儀。 BX-G104用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜鍍層的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8n...

摘要BX-G105 自動橢圓偏振測厚儀是基于消光法（或稱“零橢偏”）測量原理，針對納米薄膜厚度測量領域推出的一款自動測量型教學儀器。BX-G105儀器適用于納米薄膜的厚度測量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。 BX-G105儀器還可用于同時測量塊狀材料（如，金屬、半導...

摘要 儀器廠商：美國J.A.Woollam公司型號：M-2000DI到貨日期：2008.4.19技術指標：●波長范圍：190~1700nm●光譜分辨率：1.6nm（波長小于1000nm）

摘要 SE-1000型橢偏儀采用手動變角裝置來設定測試的入射角，樣品臺采用手動方式，在測試的準確性和靈活性與SE-2000保持一致的情況下，為客戶提供了一款競爭力的橢偏測試設備

摘要 光譜橢偏儀/SpectroscopicEllipsometerSE2000型光譜型橢偏儀是多功能薄膜測試系統，適合各種薄膜材料的研究

摘要 簡單介紹： 除了可以進行高精度薄膜分析的橢圓偏振光譜儀之外，我們還通過實現自動可變測量機制來支持所有類型的薄膜。除了常規的旋轉光子檢測器方法之外，通過為延遲板提供自動連接/分離機制，還提高了測量精度。

摘要 SmartSE,智能型多功能橢偏儀SmartSE是一款通用型薄膜測量工具

摘要 Auto SE一鍵式全自動快速橢偏儀

摘要 橢偏儀

摘要 橢偏儀應用光譜橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數以及材料微結構特性的光學測量設備

摘要 全自動光譜橢偏儀(PH-ASE型)把使用者從煩瑣的手動調節樣品高度和傾斜度工作中解放出來，樣品對準是為了保證橢偏儀測量的可重復性和精確性

摘要 多角度激光橢偏儀使用632.8nm波長HeNe激光器，對測量薄膜厚度，折射率和吸收系數有非常出色的精度。儀器能夠分析單層膜，多層膜和大塊材料（基底）。

摘要 用于橢偏儀或其它光譜儀等設備。

摘要SE 800 PV 激光橢偏儀，SENTECH設計了SE 800 PV，用于表征由SiNx/SiO2、SiNx/SiNy或SiNx/Al2O3組成的多層鈍化膜和防反射涂層。分析了單晶和多晶硅太陽電池的折射率指數、吸收和膜厚。在配方模式下進行復雜的測量，速度快，操作容易...

摘要 激光橢偏儀SE 400adv PV.是化使用的標準儀器，用于測量PV單層防反射涂層的厚度和折射率指數。特別用于表征單晶和多晶硅太陽能電池上的SiNx 防反射單層膜的性能。該儀器用于SiNx涂層和薄鈍化層SiO2和Al2O3的質量控制。

摘要 激光橢偏儀SE 500adv，橢偏儀SE 500adv將激光橢偏儀和反射儀結合在一個系統中。這種組合允許零度反射法用于快速薄膜分析，并且允許透明膜以激光橢偏儀的亞埃精度將可測量的厚度范圍擴展到25埃米，從而明確地確定厚度。

摘要 激光橢偏儀 SE 400adv，激光橢偏儀SE 400adv測量透明薄膜的厚度和折射率指數，具有測量速度、亞埃級別的厚度精度和折射率測定的精度。多角度測量允許使用激光橢偏儀SE 400adv表征吸收膜特征。

摘要 SENDURO 全自動光譜橢偏儀,包括基于測量處方的僅在幾秒鐘內即可完成的快速數據分析。橢圓儀的設計是為了便于操作：放置樣品，自動樣品對準，自動測量和分析結果。在全自動模式下使用光譜橢偏儀非常適合于質量控制和研發中的常規應用。

摘要 SENDIRA紅外光譜橢偏儀,振動光譜的特點是傅立葉紅外光譜儀FTIR。測量紅外分子振動模的吸收譜帶，分析長分子鏈的走向和薄膜的組成。紅外光譜橢偏儀適用于測量導電膜的電荷載流子濃度。

摘要 德國 Sentech 低成本高效益的光譜橢偏儀SENpro,SENpro橢偏儀是橢偏儀應用的智能解決方案。它具有角度計，入射角度步進值5。操作簡單，快速測量和直觀的數據分析相結合，以低成本效益高的設計來測量單層和多層膜的厚度和光學常數。

摘要德國Sentech SENresearch 4.0 用于光譜橢偏儀，在寬的光譜范圍從190nm（深紫外）到3,500 nm（近紅外）。每一臺SENresearch 4.0都是客戶特定的橢偏光譜解決方案。SENresearch 4.0可以配置用于全穆勒矩陣、各向異性、廣...

摘要 一、產品介紹：20多年技術積累和發展的結晶,是一款高準確性、高靈敏度、高穩定性的經典橢偏機型。即使在透明的基底上也能對超薄膜進行精確的測量。采用PEM相位調制技術，與機械旋轉部件技術相比,能提供更好的穩定性和信噪比。二、產品參數

摘要 橢偏儀 FILM SENSE可通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析,適用于薄膜材料的快速測量表征.

摘要光譜橢偏儀可配置從DUV到NIR的波長范圍。DUV范圍可用于測量超薄膜，如納米厚度范圍。比如硅晶片上的原生氧化物，其通常僅為約1至2nm厚。當用戶需要測量許多材料的帶隙時，深紫外光譜橢偏儀也是的?？梢娀蚪t外范圍用于測量相對厚或非常厚的涂層。當然，如果必須確定光學常數...

摘要 SpecEl橢偏儀通過測量基底反射的偏振光，進而測量薄膜厚度及材料不同波長處的折射率。SpecEl通過PC控制來實...

摘要 SE-PV光伏橢偏儀

摘要 SE-i 光譜橢偏儀

摘要 SE-Glass 光譜橢偏儀

摘要 SE-Mapping光譜橢偏儀

摘要 SE-L光譜橢偏儀

摘要 SE-VE光譜橢偏儀

摘要 ME-L全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀

摘要 SE-VM光譜橢偏儀

摘要 智能型多功能橢偏儀 Smart SE

摘要 一鍵式全自動快速橢偏儀 Auto SE

摘要 研究級經典型橢偏儀-UVISEL

摘要 光譜型橢偏儀