上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 75, 緊湊柵極離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.
離子束流: >250 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.
加熱燈絲產生電子, 增強設計輸出高質量, 穩定的電子流.
考夫曼離子源 KDC 75 包含2個陰極燈絲, 其中一個作為備用.
離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭
上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 75, 緊湊柵極離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.
離子束流: >250 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.
加熱燈絲產生電子, 增強設計輸出高質量, 穩定的電子流.
考夫曼離子源 KDC 75 包含2個陰極燈絲, 其中一個作為備用.
離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭.
離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養/ 維修/ 安裝.
伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 75技術參數：
離子源型號 | 離子源 KDC 75 |
Discharge | DC 熱離子 |
離子束流 | >250 mA |
離子動能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 7.5 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 2-15 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長度 | 20.1 cm |
直徑 | 14 cm |
中和器 | 燈絲 |
* 可選: 一個陰極燈絲; 可調角度的支架
伯東KRI 考夫曼離子源 KDC 75 應用領域：
1.濺鍍和蒸發鍍膜 PC
2.輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
3.表面改性, 激活 SM
4.離子濺射沉積和多層結構 IBSD
5.離子蝕刻 IBE
