Tanon 4800 全自動化學發光圖像分析系統
可對ECL發光等直接成像，獲得實驗結果。以往我們主要使用暗室曝光來進行ECL檢測，但是建造暗室浪費空間，在暗室中曝光步驟繁瑣，沖洗X膠片時會接觸到有毒的化學試劑。現在使用發光成像系統進行ECl成像已經逐漸取代傳統的暗室曝光檢測。
Tanon 4800 全自動化學發光圖像分析系統可對ECL發光等直接成像，獲得實驗結果。以往我們主要使用暗室曝光來進行ECL檢測，但是建造暗室浪費空間，在暗室中曝光步驟繁瑣，沖洗X膠片時會接觸到有毒的化學試劑。現在使用發光成像系統進行ECl成像已經逐漸取代傳統的暗室曝光檢測。
Tanon 4800 全自動化學發光圖像分析系統
性能特點
- 深度制冷CCD：使用Peltier技術對CCD進行深度制冷，可以進行長時間的ECL發光成像
- 像素合并：通過像素合并，進一步提高ECL成像的靈敏度，捕獲微弱的發光信號
- 超大光圈定焦鏡頭：使用F0.80的超大光圈定焦鏡頭，通光量更高，收集信號能力更強
- 樣品臺可選：標配抽提式雙載物對焦平臺
- 全中文軟件：自主開發，全中文拍攝、分析軟件，操作簡便，終身升級
技術規格
- 攝像頭: *美國Photo Metrics品牌高分辨率低照度數碼制冷相機
- 感光芯片:Sony ICX 695（前照式感光芯片）
- 冷卻方式: 半導體制冷
- 冷卻溫度: 低于環境溫度60℃
- 感光效率: CCD芯片光電轉換效率：High QE: >75%
- 暗電流: <0.0005e-/pixel/sec.
- 讀出燥聲: 5.5e- RMS at 12 MHz
- 有效像數: 2750×2200
- 像數密度 : 16 bit
- 像數尺寸 : 4.54um×4.54um
- 像素合并: 1×1，2×2，3×3，4×4，5×5
- 分辨率: 605萬像素
- 動態范圍: ﹥4.6個數量級
- 電動鏡頭: F/0.80, 高清晰大口徑高通透電動鏡頭，可通過計算機對焦距的電動調整
- 變 焦: 標配抽屜式雙位載物對焦平臺，可兼容拍攝樣品厚度0.01mm~10cm
- 照明模式: 透射白光，反射白光
- 激發光源: 透射：LED白光板; 雙側反射：反射白光燈（冷光）
- 拍攝面積: 15×15cm
