摘要簡要描述：LabMS 3000系列ICP-MS承載了LabTech公司創始人胡克博士三十多年的質譜研發和研制經驗，自主研發設計，擁有獨立知識產權。該產品穩定、可靠、簡便、靈活，具有穩定、耐用的離子源，高靈敏度、寬動態范圍的檢測器以及用于控制質譜多原子離子干擾的第四代碰...

摘要 儀器簡介：追求并實現了高速度、高分辨率的ICP分析裝置

摘要 儀器簡介：有機溶液、氫氟酸等也可以直接進樣

摘要 儀器簡介：ICP發射光譜儀具有ppb級的高靈敏檢測能力，５～６數量級的動態寬分析濃度范圍以及多元素同時分析等的特長，應用領域廣闊

摘要 l普通純度氬氣即可穩定工作（≥99.95%），無需使用昂貴的高純氬氣（99.999%）

摘要【MPCVD培育鉆石】HMPS-2080SP微波等離子體(CVD)系統 HMPS-2080SP的微波等離子體CVD設備是一款多用途、高性能的適用于高品質金剛石及多種碳基材料制備的綜合實驗和產業化設備，該設備可提供2英寸的金剛石材料生長能力...

摘要 ■ 緊湊、集成型的超高基質進樣系統，可以實現在線氬氣稀釋--可在不稀釋的情況下直接分析總溶解態固體含量大于10%的樣品；有機樣品加氧除碳—可在不消解的情況下直接分析有機基質的樣品，從而減少樣品前處理時間并避免此過程中引入的各種污染。

摘要 混氣管式PECVD系統由單溫區管式爐、真空系統、質子流量計、射頻電源系統系統組成PECVD設備是借助于光放電等方法產生等離子體,

摘要 開啟式管式爐PECVD系統由高溫管式爐,真空壓強控制系統,多通道高精度數字質量流量控制系統,過壓保護及冷凝等部分組成,可實現真空達0.1mbar混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。

摘要 實驗室滑軌爐PECVD系統設備通過滑動爐體來實現快速的升降溫,配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過多路高精度質量流量計控制不同氣體。

摘要 【DiaMiner培育鉆石設備】DM-8000微波等離子體CVD設備

摘要 等離子體去膠機GIGAbatch360M和380M采用等離子體除膠清洗清潔功能為晶圓去膠提供晶圓去膠機

摘要等離子體流動控制設備采用質量流量控制法對等離子體進行氣體流量、密度、溫度、壓力的控制。等離子體流動控制設備可靠性高、重復性高。寬范圍的參數調節范圍，可使用多種氣體，實現范圍的參數選擇。 手自一體控制模式，方便操作。 PLC控制功率、質量流量控制等實現參數的精確控制和記...

摘要簡單介紹： 二手安捷倫（瓦里安）720ES ICP-OES 安捷倫 720系列 ICP-OES 提供zui出色的性能、zui快的分析速度和zui高的穩定性。密封的磚利設計的新一代 VistaChip II CC...

摘要 PECVD,支持定制，單片或卷對卷式PECVD

摘要 微波等離子體激發源　　基于自主設計固態微波源開發出不同類型的微波等離子體激發源設備（工作氣體為Ar、He等），工作穩定可靠，結構緊湊，可用于等離子體噴涂、微波等離子體熱脫附、廢水處理以及質譜儀大氣壓離子化源等設備

摘要 應用范圍：

摘要 電感耦合等離子體發射光譜儀Optima 8000

摘要 儀器簡介TeledyneLeemanLabs公司潛心多年研制開發出搭載CMOS固態檢測器的ICP光譜儀Prodigy7，作為劃時代的第七代產品，在國內于2013年BCEIA期間隆重發布

摘要PHI nanoTOF II 飛行時間二次離子質譜儀是一種表面敏感的技術，提供表面分子，元素及其同位素前幾個原子層的組成圖像。所有元素和同位素，包括氫氣都可以用飛行時間二次離子質譜分析。在理論上，該儀器可以在一個無限大的質量范圍內提供很高的質量分辨率（在實踐中通常是大...

摘要 珀金埃爾默NexION 2200 ICP-MS基體耐受性，三組四極桿設計，結合新穎成熟的技術（包括第二代帶OmniRing的三錐接口），可為用戶提供出色的靈敏度、干擾去除、穩定性、基質耐受性、通量/正常運行時間，以及可持續性和運營成本效率。

摘要珀金埃爾默NexION 1100 ICP質譜儀單分析，對于測試實驗室進行痕量元素分析尋找一個可靠的但易于操作的系統能夠高樣品吞吐量，易于使用，低維護儀器的強大傳統，現在重塑常規 ICP質譜應用的用戶體驗。其單分析儀、三路四路設計，結合單氣路（可升級到多個通道）和現代化...

摘要珀金埃爾默NexION 5000多重四極桿ICP-MS，創新設計達到和超過如半導體、生物監測和其他應用領域嚴苛的痕量和超痕量元素檢測要求。NexION 5000性能超越了傳統的三重四極桿技術，提供極低的背景等效濃度（在高溫熱等離子字體中，BECs1 ppt）和出色的檢...

摘要 臺式等離子體清洗器是專業為實驗室等離子體表面清潔處理設計的等離子體表面清潔儀器,適合于科研、隱形眼鏡、生物醫學,科研實驗室等小零件小樣品表面清潔處理

摘要 這款小型等離子體表面處理機是專業為實驗室樣品清洗設計的臺式等離子體清洗機,可用于各種等離子體工藝，包括等離子體交聯和清洗各種基底（如金屬、陶瓷、玻璃和硅）的有機和無機污染物,具有等離子體表面處理的主要功能又節省空間,適合科研實驗室和工業研發

摘要 高級等離子體表面處理系統NEBULA是為器件等離子體處理設計的大型等離子體處理機器,離子體表面處理系統NEBULA用于等離子體清潔、附著力改善,等離子體表面活化增強表面潤濕性,適用于金屬、聚合物、復合材料、玻璃和陶瓷

摘要 高功率等離子體處理機HPT-500是為器件元件等離子體處理設計的進口離子體處理器,高功率等離子體處理機用于等離子體清潔、附著力改善,等離子體表面活化增強表面潤濕性,適用于金屬、聚合物、復合材料、玻璃和陶瓷

摘要 這款射頻等離子體發生器是進口射頻等離子體放大器,提供13.56MHz,120W的射頻等離子體發射,非常適合工業,科研和醫學應用

摘要PE-CVD解決方案與典型CVD反應器相比，等離子體增強型化學氣相沉積(PE-CVD)提供了一種可使用更低溫度沉積各種薄膜的有效替代方案，同時不會降低薄膜質量。高質量的二氧化硅(SiO2)膜可以在300℃至350℃沉積，而CVD需要650℃至850℃的溫度生產類似質量...

摘要 系統中的PECVD可以沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等。標準配置射頻(RF)，可選用空陰密度等離子體(HCD)源、感應耦合等離子體（ICP）源。

摘要NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統概述：NANO-MASTER PECVD系統能夠沉積高質量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達12” 直徑的基片上.該系統采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優勢.樣品臺可以...

摘要表面等離子共振(SPR, Surface Plasmon Resonance)是一種物理光學現象。當入射光以臨界角入射到兩種不同透明介質界面（如鍍在玻璃表面的金屬銀或金的薄膜）時，可引起金屬自由電子的共振，電子吸收光能量從而使反射光在一定角度內大大減弱，其中使反射光*...

摘要 等離子體光譜分析是應用泛的一種方法。利用物理學和化學實驗所積累的物質發光光譜數據，進行理論分析，能確定識別等離子體中發光物種(特征光譜)、計算電子溫度和激發溫度、測量某些物種的密度、電離度、電子密度、電子能量分布等性質。

摘要 SUGAPla-2遠程等離子體氣候計特點1.使用等離子體進行風化作用的一個新軸線2.與立邦漆進行技術合作開發出來的3.這一革命性的模型可以通過使用一個傳統加速風化*不同的過程在短短幾個小時內模擬沖繩5年的戶外暴露情況試驗壓力550pa,90pa高頻電力290瓦

摘要 PLASMA等離子體納米涂層設備概要：PLASMA等離子體納米涂層設備面向工業級客戶使用需求設計的有機物等離子氣相沉積系統，適用于各種基材表面的低溫有機功能材料的納米涂層，如防水/防腐蝕涂層，金屬-塑封料結合力促進涂層等

摘要 PLASMA等離子體去膠機概要：該設備是適用于硅基半導體及化合物半導體前后道的等離子體去膠設備，可用于光刻膠灰化/殘膠去除和表面處理，該系列有兩種配置分別兼容4“/6”/8“或8“/12“晶圓

摘要 產品應用：該款具有高電離度、高電子溫度和電子密度、適用壓強范圍寬、無內部電極污染等優異性能，微波等離子體在材料表面處理、金剛石薄膜制備、化學氣相沉積、刻蝕以及甲烷轉化制氫、長余輝發光材料、陶瓷燒結、碳納米管修飾、納米粉體合成、處理水污染等領域有廣泛應用

摘要SL-ALC全自動長程可調氣室（用于激光等離子體加速器）資料下載：SL-ALC介紹1;SL-ALC介紹2SL-ALC-HI是一款全自動長度可調氣室，設計用于那些需要毫米到厘米長度的穩定介質的低密度激光等離子體相互作用實驗，例如，電子加速和衍射、反康普頓散射、伽馬射線產...

摘要 目前為止，主要通過同步輻射產生的X射線才足夠明亮達，實現軟X-ray顯微成像，但是同步輻射裝置占地足球場大小，價格及其昂貴，我們提供基于真空中激光致等離子體技術同樣能夠實現軟X-ray顯微成像

摘要 MPCVD方法合成金剛薄膜具有高純度、均勻性好、面積大等優點，特別是在合成大面積金剛石薄膜方面，是其他方法難以與媲美的

摘要 資料下載：PLASSYS約瑟夫森結制備系列系統(磁控濺射,電子束蒸鍍)

摘要 關鍵詞:MPCVD

摘要 AirSense離子分子反應質譜儀是一種軟電離方法，通過使用這種方法，使待分析物樣品的碎片化大大減少或消除。帶正電荷的原子離子與包含待分析分子的中性氣流中的分子發生低能量碰撞。碰撞所產生的分子離子后續通過四極質量過濾器進行分離，通常的質量范圍為7至519amu。

摘要V＆F的LubeSense瞬態機油消耗檢測質譜儀采用硫示蹤方法，可生成實時數據，從而使工程師能夠創建詳細的機油消耗曲線。V＆F的LubeSense的安裝和操作是非常安全的。V＆F的GasOxidizer可將尾氣中的所有硫，既可以是氣態化合物，也可以是顆粒物中的硫都轉化...

摘要 一臺可同時測量所有同位素的電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS