摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 75, 緊湊柵網離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 250 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.加熱燈絲產生電子, 增強設計輸出高質量, 穩定的電子流....

摘要上海伯東代理美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 100, 屬于中型規格柵網離子源. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 400 mA; 離子動能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 燈絲.采用雙陰極燈絲和自對準柵網.加熱燈絲產生電...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 40, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.KRI 射頻離子源 RFICP 40 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 100 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可選聚焦, 平行, 散射.KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源 (柵網離子源), 離子束流: 350 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000....

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵網離子源, 離子束可選聚焦, 平行, 散射.離子束流: 600 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 采用射頻技術產生離子, 無需電...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統, 帶有水冷方式, 低成本設計提供高離子電流. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7 高= 5.5放電電壓 / 電流: 50-30...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上, 提供離子束流的無柵網離子源.尺寸: 直徑= 9.7 高= 6放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A操作氣...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 160. 屬于柵網離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應用.離子束流: 650 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 系列. 屬于柵網離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 10 mA~650 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.加熱燈絲產生電子, 增強設計輸出高質量, 穩...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵網離子源.離子束流: 800 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 壓力...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源, 離子束可選聚焦, 平行, 散射.離子束流: 100 mA~1500mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 離子源, 99%原廠.KRI 射頻離子源 RFICP 380 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 1500 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.離子束可聚焦, 平行, 散射.采用射...

摘要等離子體清洗好處,對PTFE進行等離子活化處理,蝕刻工藝,為彈性密封件和PTFE密封件研發了很好的等離子工藝,并得到了應用,等離子體清洗與其它清洗方式對比表.等離子體清洗好處：　１、其除去了有機層（含碳污染物），其會受到例如，氧氣和空氣的化腐蝕，通過超壓吹掃，將其從表...

摘要

摘要 眾瀕5L真空等離子清洗機低溫塑料清洗，真空低溫清洗，更適合易熱形變類物體，雙路氣體接入，智能中控，操作更簡單。